Multivariable dynamic modeling and plasma-oriented advanced process control of nonlinear reactive sputtering von Wölfel, Christian

Multivariable dynamic modeling and plasma-oriented advanced process control of nonlinear reactive sputtering

PhD Thesis

This thesis investigates the nonlinear reactive sputter process in a novel way: both from the control-theoretical side and from the plasma-physical side.
The plasma behavior is explicitly considered for the process modeling and for the design of the control system to establish steady-state plasma conditions. By use of one of the presented control systems an unstable operation point of the process can be stabilized, which enables high deposition speed and a stoichiometric thin film subject to steady-state plasma conditions. In this framework, the plasma state is either defined by the self-bias voltage or the electron density. The application of the Multipole Resonance Probe allows to control the electron density as a quantity that directly characterizes the plasma state.

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PhD thesis
Produktinformationen
    • ISBN-10
      3753424846
    • GTIN-13
      9783753424842
    • Untertitel
      PhD Thesis
    • Erscheinungstermin
    • Auflage
      1
    • Sprache
      ger
    • Autoren Biografie
      Christian Wölfel: Christian Woelfel is postdoctoral researcher at Ruhr University Bochum, Germany. In his work, he combines the fields of control engineering and plasma science to develop an advanced plasma-oriented control strategy for vacuum processes. His research interests are focused on the modeling and control of physical systems against the background of interdisciplinary research themes that include plasma-based processes, process instrumentation and control theory.
    • Genre-Code
      1684
    • Letzte Bearbeitung
      2023-03-01
    • Produktart
      BC
    • Schlüsselwörter
      PhD thesis
    • Verleger
      BoD – Books on Demand
    • Genre
      HC, Technik, Technik: Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik

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