Grundlagen der Halbleiterphysik

Grundlagen der Halbleiterphysik von Smoliner,  Jürgen
Frei nach dem Motto „man muss nicht alles wissen" geht der Textes bewusst nicht immer in die Tiefe, um dann an anderen Stellen  – wenn es dem besseren Verständnis dient – detailliert auf Zusammenhänge einzugehen. Zahlreiche typische Übungsaufgaben sind mit vielen Details als Beispiele in den Text eingearbeitet und erleichtern Ihnen damit das Bestehen von Tutorien und Klausuren. Zusätzlich finden Sie im Text eingestreute „Hausaufgaben“, die es sich zu lösen lohnt, wenn Sie ein tieferes Verständnis der Materie suchen.
Aktualisiert: 2023-04-04
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Grundlagen der Halbleiterphysik

Grundlagen der Halbleiterphysik von Smoliner,  Jürgen
Frei nach dem Motto „man muss nicht alles wissen" geht der Textes bewusst nicht immer in die Tiefe, um dann an anderen Stellen  – wenn es dem besseren Verständnis dient – detailliert auf Zusammenhänge einzugehen. Zahlreiche typische Übungsaufgaben sind mit vielen Details als Beispiele in den Text eingearbeitet und erleichtern Ihnen damit das Bestehen von Tutorien und Klausuren. Zusätzlich finden Sie im Text eingestreute „Hausaufgaben“, die es sich zu lösen lohnt, wenn Sie ein tieferes Verständnis der Materie suchen.
Aktualisiert: 2023-03-14
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Silizium-Halbleitertechnologie

Silizium-Halbleitertechnologie von Hilleringmann,  Ulrich
Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik. In der 6. Auflage ...
Aktualisiert: 2023-03-14
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Integrierte Digitale Schaltungen MOS / BICMOS

Integrierte Digitale Schaltungen MOS / BICMOS von Heimsch,  W., Klar,  Heinrich
Die Verwendung von Zellbibliotheken zur Synthese von Logikbausteinen ohne Verständnis der integrierten Schaltungstechniken MOS/BICMOS führt zu großen Chipflächen, hohen Verlustleistungen und niedrigen Taktzyklen. Dagegen führt dieses Buch in die wichtigsten Methoden und Prinzipien der integrierten MOS-/BICMOS-Schaltungstechnik ein. Der Leser wird in die Lage versetzt, für die jeweilige Anwendung die günstigste Schaltungstechnik auszuwählen und anzuwenden und so das optimale Ergebnis zu erzielen. Behandelt wird der Entwurf von digitalen, integrierten MOS/BICMOS-Bausteinen. In deutscher Sprache wird zum ersten Mal die technologieorientierte und die systemorientierte Schaltungstechnik gemeinsam und zusammenhängend dargestellt.
Aktualisiert: 2023-04-01
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Grundlagen der CMOS-Technologie

Grundlagen der CMOS-Technologie von Giebel,  Thomas
Das Buch bietet einen Einstieg in die Technologie der integrierten CMOS-Schaltungen und liefert das hierfür erforderliche Hintergrundwissen. Es stellt Zusammenhänge und Wechselwirkungen zwischen der zugrunde liegenden Halbleiterphysik, den fertigungstechnischen Methoden zur Herstellung integrierter Schaltungen, den elektronischen Eigenschaften digitaler CMOS-Schaltungen und dem Entwurf bzw. der Entwicklung solcher Schaltungen dar.
Aktualisiert: 2023-03-14
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Grundlagen der Halbleiterphysik

Grundlagen der Halbleiterphysik von Smoliner,  Jürgen
Dieses Lehrbuch wurde geschrieben, um Ihnen einen effizienten und verständlichen Einstieg in die Halbleiterphysik und die Anwendungen der Halbleiterelektronik zu ermöglichen. Es hilft Ihnen – auch wenn Sie vorher noch nichts über Quantenmechanik etc. gehört haben – sich das Grundwissen der Halbleiterphysik auf effiziente Weise anzueignen und zu lernen, was für einen Einsteiger in diesem Gebiet wirklich wichtig ist. Das Buch beschränkt sich daher nur auf die allernötigsten Grundlagen der elektronischen Eigenschaften von Volumenhalbleitern und deren Einsatz in Halbleiterbauelementen.Frei nach dem Motto „man muss nicht alles wissen" geht der Textes bewusst nicht immer in die Tiefe, um dann an anderen Stellen  – wenn es dem besseren Verständnis dient – detailliert auf Zusammenhänge einzugehen. Zahlreiche typische Übungsaufgaben sind mit vielen Details als Beispiele in den Text eingearbeitet und erleichtern Ihnen damit das Bestehen von Tutorien und Klausuren. Zusätzlich finden Sie im Text eingestreute „Hausaufgaben“, die es sich zu lösen lohnt, wenn Sie ein tieferes Verständnis der Materie suchen.
Aktualisiert: 2023-04-03
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Microsoft Excel 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-420)

Microsoft Excel 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-420) von Kolberg,  Michael, Kommer,  Isolde
Die offizielle Schulungsunterlage zu Excel 2013 wurde von Microsoft für alle Anwender entwickelt, die im Rahmen einer Trainingsmaßnahme den effizienten Umgang mit Microsoft Office-Produkten erlernen möchten. Gleichzeitig bietet diese Schulungsunterlage eine zuverlässige Vorbereitung auf die Microsoft Office Specialist (MOS)-Prüfung 77-420. Durch den ausgereiften didaktischen Aufbau lernen Sie in übersichtlichen Lektionen die Arbeitstechniken kennen, mit deren Hilfe Sie die typischen Anforderungen beim beruflichen Einsatz von Excel 2013 meistern. Dabei werden Sie optimal auf die neuen projektbasierten Prüfungen vorbereitet. Klare Lernziele weisen Ihnen den Weg, leicht nachvollziehbare Schritt-für-Schritt-Anleitungen mit zahlreichen Abbildungen führen Sie durch die Arbeitsschritte und Wiederholungsfragen stellen sicher, dass Sie den Stoff verstanden haben.
Aktualisiert: 2021-09-23
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Microsoft Word 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-418)

Microsoft Word 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-418) von Haselier,  Rainer G.
Die offizielle Schulungsunterlage zu Word 2013 wurde von Microsoft für alle Anwender entwickelt, die im Rahmen einer Trainingsmaßnahme den effizienten Umgang mit Microsoft Office-Produkten erlernen möchten. Gleichzeitig bietet diese Schulungsunterlage eine zuverlässige Vorbereitung auf die Microsoft Office Specialist (MOS)-Prüfung 77-418 dar. Durch den ausgereiften didaktischen Aufbau lernen Sie in übersichtlichen Lektionen die Arbeitstechniken kennen, mit deren Hilfe Sie die typischen Anforderungen beim beruflichen Einsatz von Word 2013 meistern. Dabei werden Sie optimal auf die neuen projektbasierten Examen vorbereitet. Klare Lernziele weisen Ihnen den Weg, leicht nachvollziehbare Schritt-für-Schritt-Anleitungen mit zahlreichen Abbildungen führen Sie durch die Arbeitsschritte und Wiederholungsfragen stellen sicher, dass Sie den Stoff verstanden haben.
Aktualisiert: 2019-05-11
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Microsoft Excel 2010 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-882)

Microsoft Excel 2010 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-882) von Kolberg,  Michael
Die offizielle Schulungsunterlage zu Excel 2010 wurde von Microsoft für alle Anwender entwickelt, die im Rahmen einer Trainingsmaßnahme den effizienten Umgang mit Microsoft Office-Produkten erlernen möchten. Durch den ausgereiften didaktischen Aufbau lernen Sie in übersichtlichen Lektionen die Arbeitstechniken kennen, mit deren Hilfe Sie die typischen Anforderungen beim beruflichen Einsatz von Excel 2010 meistern. Klare Lernziele weisen Ihnen den Weg, leicht nachvollziehbare Schritt-für-Schritt-Anleitungen mit reichhaltiger Bebilderung führen Sie durch die Arbeitsschritte und Wiederholungsfragen stellen sicher, dass Sie den Stoff verstanden haben. Gleichzeitig stellt diese Schulungsunterlage eine solide Basis für die Vorbereitung auf die entsprechende Microsoft Office Specialist (MOS)-Prüfung dar.
Aktualisiert: 2019-05-11
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Microsoft Word 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-418)

Microsoft Word 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-418) von Haselier,  Rainer G.
Die offizielle Schulungsunterlage zu Word 2013 wurde von Microsoft für alle Anwender entwickelt, die im Rahmen einer Trainingsmaßnahme den effizienten Umgang mit Microsoft Office-Produkten erlernen möchten. Gleichzeitig bietet diese Schulungsunterlage eine zuverlässige Vorbereitung auf die Microsoft Office Specialist (MOS)-Prüfung 77-418 dar. Durch den ausgereiften didaktischen Aufbau lernen Sie in übersichtlichen Lektionen die Arbeitstechniken kennen, mit deren Hilfe Sie die typischen Anforderungen beim beruflichen Einsatz von Word 2013 meistern. Dabei werden Sie optimal auf die neuen projektbasierten Examen vorbereitet. Klare Lernziele weisen Ihnen den Weg, leicht nachvollziehbare Schritt-für-Schritt-Anleitungen mit zahlreichen Abbildungen führen Sie durch die Arbeitsschritte und Wiederholungsfragen stellen sicher, dass Sie den Stoff verstanden haben.
Aktualisiert: 2019-05-11
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Grundlagen der Halbleiterphysik

Grundlagen der Halbleiterphysik von Smoliner,  Jürgen
Dieses Lehrbuch wurde geschrieben, um Ihnen einen effizienten und verständlichen Einstieg in die Halbleiterphysik und die Anwendungen der Halbleiterelektronik zu ermöglichen. Es hilft Ihnen – auch wenn Sie vorher noch nichts über Quantenmechanik etc. gehört haben – sich das Grundwissen der Halbleiterphysik auf effiziente Weise anzueignen und zu lernen, was für einen Einsteiger in diesem Gebiet wirklich wichtig ist. Das Buch beschränkt sich daher nur auf die allernötigsten Grundlagen der elektronischen Eigenschaften von Volumenhalbleitern und deren Einsatz in Halbleiterbauelementen.Frei nach dem Motto „man muss nicht alles wissen" geht der Textes bewusst nicht immer in die Tiefe, um dann an anderen Stellen  – wenn es dem besseren Verständnis dient – detailliert auf Zusammenhänge einzugehen. Zahlreiche typische Übungsaufgaben sind mit vielen Details als Beispiele in den Text eingearbeitet und erleichtern Ihnen damit das Bestehen von Tutorien und Klausuren. Zusätzlich finden Sie im Text eingestreute „Hausaufgaben“, die es sich zu lösen lohnt, wenn Sie ein tieferes Verständnis der Materie suchen.
Aktualisiert: 2020-02-16
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Grundlagen der CMOS-Technologie

Grundlagen der CMOS-Technologie von Giebel,  Thomas
Das Buch bietet einen Einstieg in die Technologie der integrierten CMOS-Schaltungen und liefert das hierfür erforderliche Hintergrundwissen. Es stellt Zusammenhänge und Wechselwirkungen zwischen der zugrunde liegenden Halbleiterphysik, den fertigungstechnischen Methoden zur Herstellung integrierter Schaltungen, den elektronischen Eigenschaften digitaler CMOS-Schaltungen und dem Entwurf bzw. der Entwicklung solcher Schaltungen dar.
Aktualisiert: 2023-04-04
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Microsoft Excel 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-420)

Microsoft Excel 2013 – Die offizielle Schulungsunterlage (77-420) von Kolberg,  Michael
Die offizielle Schulungsunterlage zu Excel 2013 wurde von Microsoft für alle Anwender entwickelt, die im Rahmen einer Trainingsmaßnahme den effizienten Umgang mit Microsoft Office-Produkten erlernen möchten. Durch den ausgereiften didaktischen Aufbau lernen Sie in übersichtlichen Lektionen die Arbeitstechniken kennen, mit deren Hilfe Sie die typischen Anforderungen beim beruflichen Einsatz von Excel 2013 meistern. Klare Lernziele weisen Ihnen den Weg, leicht nachvollziehbare Schritt-für-Schritt-Anleitungen mit reichhaltiger Bebilderung führen Sie durch die Arbeitsschritte und Wiederholungsfragen stellen sicher, dass Sie den Stoff verstanden haben. Gleichzeitig stellt diese Schulungsunterlage eine solide Basis für die Vorbereitung auf die entsprechende Microsoft Office Specialist (MOS)-Prüfung 77-420 dar.
Aktualisiert: 2021-12-30
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Lithographieunabhängige nanoskalige MOS-Technologie auf Bulk-Silizium

Lithographieunabhängige nanoskalige MOS-Technologie auf Bulk-Silizium von Kallis,  Klaus
Der Trend zur stetigen Verkleinerung der minimalen Strukturgrößen in der Mikroelektronik hält auch an der Schwelle zur Nanoelektronik unvermindert an. Einen begrenzenden Faktor stellen derzeit die optischen Lithographieverfahren dar, da sie nur mit erheblichem Maschinen- und Kosteneinsatz eine Fertigung im Sub-50 mn Bereich erlauben. In diesem Buch wird daher ein Verfahren vorgestellt, das die preiswerte Herstellung von Transistoren mit nm-Geometrien in allen drei Raumrichtungen ermöglicht und nur minimale Anforderungen an die verwendete Lithographie stellt. Dabei kommen auf Schicht-Depositions- und Rückätzschritten beruhende Spacertechniken zum Einsatz. Die gefertigten Transistoren werden hinsichtlich ihrer elektrischen Eigenschaften charakterisiert. Begrenzende Faktoren bei der praktischen Herstellung werden aufgezeigt und Lösungsansätze erörtert.
Aktualisiert: 2019-11-18
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Entwicklung und Charakterisierung von Trench-Gate-Strukturen für 4H-SiC Leistungs-MOSFETs

Entwicklung und Charakterisierung von Trench-Gate-Strukturen für 4H-SiC Leistungs-MOSFETs von Banzhaf,  Christian Tobias
Das Ziel dieser experimentellen Arbeit ist die prozesstechnologische Umsetzung einer Trench-MOSFET-Technologie auf der Silicium-Seite von 4H-Siliciumcarbid sowie deren elektrische Charakterisierung und Bewertung hinsichtlich des optimalen Designs. Trench-MOSFETs auf 4H-Siliciumcarbid stellen aufgrund der hohen Integrationsdichte im Vergleich zu planaren MOSFETs hocheffiziente Transistoren für das Schalten von großen Strömen und hohen Spannungen dar. Die Entwicklung und Charakterisierung der Kernprozesse Trench, Trench-Nachbehandlung, Gate-Dielektrikum und dielektrische Feldplatten sowie deren Wechselwirkungen erfolgt unter Verwendung von Trench-MOS-Strukturen sowie planaren MOS-Strukturen. Neben der elektrischen Untersuchung erfolgt eine elektronenmikroskopische Charakterisierung der Kernprozesse, was aufgrund der sich ausbildenden Topographie auf den strukturierten Wafern unerlässlich ist.
Aktualisiert: 2019-12-12
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