Einfluss der Kristallinität von TiO(tief)2-Dünnschichten auf den photokatalytischen Stickstoffmonoxid-Abbau.

Einfluss der Kristallinität von TiO(tief)2-Dünnschichten auf den photokatalytischen Stickstoffmonoxid-Abbau. von Graumann,  Tobias
In dieser Arbeit wurde die photokatalytische Depositionsgeschwindigkeit des Stickstoffmonoxid-Abbaus von mittels thermischer Atomlagenabscheidung abgeschiedenen Titandioxid-Photokatalysatoren evaluiert. Hierfür wurden die geeigneten Prozessfenster zur Abscheidung von kristallinem Titandioxid identifiziert und eine Bewertung der photokatalytischen Wirksamkeit unter Betrachtung der jeweiligen kinetischen Modellierung durchgeführt.
Aktualisiert: 2023-06-01
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Einfluss der Kristallinität von TiO(tief)2-Dünnschichten auf den photokatalytischen Stickstoffmonoxid-Abbau.

Einfluss der Kristallinität von TiO(tief)2-Dünnschichten auf den photokatalytischen Stickstoffmonoxid-Abbau. von Graumann,  Tobias
In dieser Arbeit wurde die photokatalytische Depositionsgeschwindigkeit des Stickstoffmonoxid-Abbaus von mittels thermischer Atomlagenabscheidung abgeschiedenen Titandioxid-Photokatalysatoren evaluiert. Hierfür wurden die geeigneten Prozessfenster zur Abscheidung von kristallinem Titandioxid identifiziert und eine Bewertung der photokatalytischen Wirksamkeit unter Betrachtung der jeweiligen kinetischen Modellierung durchgeführt.
Aktualisiert: 2023-03-31
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Atomlagenabscheidung und Modifikation metallischer Cobalt-, Nickel- und Kupferschichten sowie Titandioxidschichten

Atomlagenabscheidung und Modifikation metallischer Cobalt-, Nickel- und Kupferschichten sowie Titandioxidschichten von Sasinska,  Alexander
Die Atomlagenabscheidung gewinnt seit Beginn des neuen Jahrtausends sowohl in industrieller, als auch in akademischer Hinsicht zunehmend an Bedeutung. Die Möglichkeit, ultradünne Schichten nach einem kontrollierten Mechanismus auf eine Vielzahl von Substraten aufzubringen ist nicht nur allein für die Halbleiter-Industrie von immenser Bedeutung. Das Anwendungspotenzial reicht über biotechnologische und sensorische Anwendungen, wie Diffusionssperrschichten oder Gassensoren bis hin zur Erforschung von Solarzellen und Photohalbleitern für die nachhaltige Energiegewinnung. Der erste Teil dieser Dissertation behandelt die Entwicklung neuer, luftstabiler Precursoren für die plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung metallischer Cobalt- und Nickelschichten unter Verwendung tridentater Enaminon-Liganden, sowie metallischer Kupferschichten durch den Einsatz bidentater Heteroarylalkenolat-Liganden. Ein speziell für das Zusammenspiel zwischen molekularer Stabilität und Reaktivität gegenüber funktionellen Gruppen der Substratoberfläche ausgelegtes Ligandenkonzept wird auf seine selbstlimitierenden Eigenschaften und damit auf seine Eignung als ALD-Precursor getestet. Der zweite Teil dieser Dissertation beschäftigt sich mit der Herstellung von Titandioxid-Photoanodenmaterialien für die solare Wasserelektrolyse. Die gezielte Modifikation von ALD-Titandioxidschichten mittels Wasserstoff- und Stickstoffplasma ermöglicht die Analyse der individuellen Einflüsse von Sauerstoff-Fehlstellen und der Dotierelemente Wasserstoff und Stickstoff auf die photoelektrochemischen Eigenschaften des Matrixmaterials, sodass leistungsstarke Photoanodenmaterialien in hohem reproduzierbarem Maßstab hergestellt werden können.
Aktualisiert: 2020-12-08
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Räumliche Atomlagenabscheidung bei Atmosphärendruck zur Herstellung von Gaspermeationsbarrieren

Räumliche Atomlagenabscheidung bei Atmosphärendruck zur Herstellung von Gaspermeationsbarrieren von Franke,  Sebastian
Gegenstand der vorliegenden Arbeit ist die Entwicklung und Charakterisierung einer Beschichtungsanlage zur Herstellung von Gaspermeationsbarrieren auf Polymerfolien. Als Beschichtungsverfahren wird die vergleichsweise neuartige räumliche Atomlagenabscheidung bei Atmosphärendruck eingesetzt, die eine kostengünstige Herstellung von Barriereschichten im Rolle-zu-Rolle-Verfahren verspricht. Am Materialsystem Trimethylaluminium und Wasser zur Abscheidung von Aluminiumoxid werden die relevanten Prozessparameter der Anlage untersucht und zu deren Optimierung genutzt. Neben Wasser stehen als Co-Reaktant außerdem Ozon und ein Helium-Sauerstoffplasma zur Verfügung. Untersucht werden das Wachstum und Schichteigenschaften von AlOx, ZrOx, SiOx und SiAlxOy in Abhängigkeit vom verwendeten Co-Reaktanten, der Prozesstemperatur, der Präkursormenge und der Expositionsdauer. Aluminiumoxidschichten zeigen bei der Messung der Wasserdurchlässigkeit zwar ausgezeichnete Barriereeigenschaften, sind jedoch chemisch nicht sehr stabil. Mischschichten aus SiAlxOy haben ähnlich geringe Wasserpermeationsraten, erweisen sich jedoch chemisch als wesentlich resistenter und sind gleichzeitig mechanisch deutlich belastbarer.
Aktualisiert: 2019-06-18
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